




鍍鎳、鍍鉻、鍍鋅常見的問題與處理方法
光亮鍍鎳-故障處理方法
??????????????????????????????? | 成因 | 糾正方法 |
(1)低電位起霧,整平度差 | 光亮劑不足 | 添加適量光亮劑 |
(2)低電位漏鍍或走位差 | a)光亮劑過多? b)柔軟劑不足 | a)將PH調(diào)低至3.0-3.5后電解消耗? b)添加適量柔軟劑 |
(3)高電位區(qū)發(fā)灰 | a)缺少柔軟劑? b)槽液受有機(jī)物污染 c)鍍液PH太高 | a)添加適量的柔軟劑? b)加入3-8克/升活性碳粉處理 c)用稀硫酸調(diào)整PH |
(4)鍍層有針孔 | a)缺少潤濕劑? b)鍍前處理不良 c)鍍液中有油污或有機(jī)雜質(zhì)過多 d)過濾泵吸入空氣 e)鍍液中硼酸含量偏低和鍍液溫度太低 f)空氣攪拌不良 | a)補(bǔ)充適量潤濕劑? b)檢查前處理步驟 c)使用雙氧水或高錳酸鉀及活性碳處理 d)過濾泵入水口要遠(yuǎn)離空氣攪拌位置,防止吸入氣泡 e)經(jīng)分析后調(diào)整硼酸濃度;將鍍液加溫 f)檢查打氣喉有否倒塞及濾泵壓 |
(5)鍍層粗糙有毛刺 | a)鍍層受陽極泥渣污染? b)鍍液內(nèi)有懸浮的微細(xì)顆粒 c)鐵離子在高PH下形成氫氧化物沉淀在鍍層中 | a)將鍍液徹底過濾;檢查陽極袋有否破損? b)連續(xù)過濾鍍液 c)提高PH至5.5后做除處理;防止鐵工件掉入槽中 |
(6)鍍層附著力差 | a)鍍前處理不良? b)酸活化不足 | a)加強(qiáng)前處理或更換除油劑? b)更換酸活化液 |
(7)鍍層粗糙有毛刺 | a)PH太高? b)鍍液主鹽成分偏低 c)液溫過低 d)潤濕劑嚴(yán)重過量 | a)調(diào)整PH值至3.8-4.4? b)分析成份后補(bǔ)充 c)將鍍液加溫至55℃-60℃ d)用活性碳吸附 |
(8)鍍層脆性大 | a)光亮劑過量? b)有機(jī)物污染 c)六價(jià)鉻污染 | a)將PH值調(diào)低至3.0-3.5后電解消耗? b)用高錳酸鉀及活性碳處理 c)用保險(xiǎn)粉處理 |
(9)低電位區(qū)發(fā)黑 | a)金屬雜質(zhì)污染? b)光亮劑過多 | a)用低電流密度電解或加入適量除雜水除去? b)將PH調(diào)低至3.0-3.5后電解消耗 |
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化學(xué)鍍鎳維護(hù)、溶液組成及工藝條件的影響
原因 | 處理方法 |
鎳鹽和次亞磷酸鈉對(duì)鍍層沉積的影響 | 在酸性化學(xué)鍍鎳液中鎳離子濃度增加,可以提高鎳的沉積速度。特別是當(dāng)鎳鹽濃度在10g/L以下時(shí),增加鎳鹽濃度,鎳的沉積速度加快,但是在鎳鹽濃度在到30g/L時(shí)繼續(xù)提高濃度,則鍍層的沉積速度不再增加,甚至下降,鎳鹽濃度地過高時(shí),會(huì)導(dǎo)致鍍液的穩(wěn)定性下降,并易出現(xiàn)粗糙層。?在堿性化學(xué)鍍鎳液中,鎳鹽的濃度在20g/L以下時(shí),提高鎳鹽濃高使沉積速度有明顯的提高,但當(dāng)鎳鹽的濃度高于25g/L以上時(shí),雖繼續(xù)提高鎳鹽含量,其沉積速度趨于穩(wěn)定。 提高次磷酸鈉濃度,可提高沉積速度,但次磷酸鈉濃度增加,并不能無限地提高鎳的沉積的速度。超過了極限速度,雖增加次磷酸鈉的濃度,其沉積速度不僅不會(huì)增加,反而使鍍液的穩(wěn)定性下降,引起鍍液自然分解,降低鍍層質(zhì)量。 |
絡(luò)合劑的影響和PH的調(diào)控方法 | 加入絡(luò)合劑,在酸性化學(xué)鍍鎳液中是防止亞磷酸鎳深沉,而在堿性化學(xué)鍍鎳液中則是防止氫氧化鎳沉淀,以增加鍍液的穩(wěn)定性,控制沉積速度和改善鍍層的外觀。? 絡(luò)合劑的另一重要作用是提高鍍液中亞磷酸鎳的沉淀點(diǎn),隨著化學(xué)鍍的進(jìn)行,亞磷酸鎳的增加很快就達(dá)到亞磷酸鎳的沉淀點(diǎn)而出現(xiàn)沉淀,使鍍液不能正常使用。加入絡(luò)合劑后,由于大部分鎳離子與絡(luò)合劑結(jié)合成絡(luò)離子,不易與亞磷酸離子反應(yīng)生成亞磷酸鎳沉淀,沉淀點(diǎn)得到提高,促使鍍液穩(wěn)定。 絡(luò)合劑還能提高鍍液的工作PH,如不加絡(luò)合劑要使鍍液能有足夠高的亞磷酸鎳的沉淀點(diǎn),必須使其PH降至3以下,可是在這種PH下操作不可能沉積出鍍層。 在酸性溶液中,PH<3時(shí)鎳不會(huì)被還原析出。隨著PH的提高,沉積速度加快;PH>6時(shí)可能產(chǎn)生沉淀。一般PH控制在4.5~5.0為佳 在堿性溶液中,PH在規(guī)定范圍內(nèi)對(duì)沉積速度的影響不大,PH過高會(huì)降低溶液的穩(wěn)定性.但在生產(chǎn)應(yīng)用過程中,PH會(huì)不斷降低,調(diào)整PH時(shí),應(yīng)使溶液適當(dāng)冷卻以后,再用行調(diào)整,以防溶液分解 |
注意發(fā)揮和掌握好抑制劑的作用 | 為了提高酸性化學(xué)鍍鎳液的穩(wěn)定性,可以加入極微量的抑制劑。抑制劑具有催化作用,使用時(shí)要極為小心,不能加入過量,否則會(huì)加速溶液的分解而失效 |
嚴(yán)格中控制槽溫 | 溫度對(duì)沉積速度影響很大,溫度愈高,沉積速度愈快。 |
加強(qiáng)現(xiàn)場(chǎng)維護(hù) | 鍍前處理加強(qiáng)鍍件除油除銹,干凈、徹底、防止雜質(zhì)帶入。 |
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鍍鋅液的維護(hù)與常見故障的排除
? 鍍鋅液有氰化鍍鋅、酸性鍍鋅、堿性鍍鋅三大類。除了它們的酸堿懷不同外,其絡(luò)合劑和各組分含量也不相同,故其維護(hù)方法與故障處理也不相同。
溶液類型 | 注意事項(xiàng) |
氰化鍍鋅溶液 | 氰化鍍鋅溶液比較穩(wěn)定,容易維護(hù),只要槽液成分含量控制在正常范圍內(nèi),生產(chǎn)中不易出故障。但是陽極板要經(jīng)常洗刷干凈。 |
銨鹽鍍鋅溶液 | 銨鹽鍍鋅溶液對(duì)銅、鐵等金屬雜質(zhì)敏感性強(qiáng),故鍍液內(nèi)掉入有鐵、銅等金屬零件,要及時(shí)打撈。零件表面更要處理干凈。鍍液要定期過濾和分析,及時(shí)補(bǔ)充鍍液成分,PH值一定要控制在規(guī)定范圍。 |
堿性鋅酸鹽鍍鋅溶液 | 槽液要定期過濾分析含量,及時(shí)調(diào)整鍍液成分使含量在正常范圍。其中氫氧化鈉與鋅的含量是該種工藝配方的主要成分,一定要控制在規(guī)定范圍內(nèi),即氫氧化鈉:鋅10:1~14:1(質(zhì)量比)。陰陽極導(dǎo)桿、擱座要經(jīng)常刷洗干凈,保持良好的導(dǎo)電性。零件表面要處理干凈,避免油污等雜質(zhì)帶入鍍槽,以保證零件上鍍層有良好的結(jié)合力。 |
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酸性鍍銅-故障處理方法
?故障 | 成因 | 糾正方法 |
(1)鍍層燒焦 | a)鍍液溫度低于20℃? b)銅含量過低(低于50克/升) c)氯離子含量過低 d)填平劑過量 e)缺少光量劑 f)檢查陰極移動(dòng)空氣攪拌 | a) 升高溫度至24-28℃? b)添加硫酸銅 c)分析后補(bǔ)充 d)電解消耗填平劑或用雙氧水少量活性碳處理消耗 e)補(bǔ)充光量劑 f)正確使用攪拌 |
(2)高電位鍍層褶皺 | a) 缺少開缸劑? b)缺少氯離子 | a)補(bǔ)加開缸劑 b)經(jīng)分析后調(diào)整至80毫克/升 |
(3)低電位光亮度差 | a) 鍍液溫度超過33℃,? b)光量劑過量 c)缺少開缸劑 d)有機(jī)物污染 | a) 降低溫度30℃以內(nèi)? b)電解消耗過多的光量劑 c)補(bǔ)充開缸劑 d)加入50-100毫克 |
(4)低電位整平性突然變差 | a)填平劑過量? b)硫酸不足 | a)電解消耗? b)分析后補(bǔ)充 |
(5)整平性差 | a) 缺少填平劑光亮劑? b)氯離子過量(高于150毫克/升) | a) 添加適量之填平劑與光亮劑? b)加入鋅份或硫酸銀溶液可以沉淀氯離子 |
(6)光亮度不足 | a)添加劑不夠 b)氯離子含量過高或偏低 c)陽極面積不足 d)導(dǎo)電不良 e)硫酸含量偏高 | a) 補(bǔ)充添加劑? b)分析后調(diào)至80毫克/升 c)增加陽極面積 d)檢查導(dǎo)電情況 e)稀釋鍍液并分析是否補(bǔ)充其它原料 |
(7)加入添加劑后無相應(yīng)效果 | a)有機(jī)物污染 | a) 加入50-100毫克/升過硫酸鉀(或鈉)? b)加入5-10克/升活性碳份處理,然后補(bǔ)充添加劑 |
(8)添加劑消耗量大 | a) 鍍液溫度大于30℃? b)填平劑與光亮劑的添加比例不恰當(dāng) c)陽極表面污垢多 ? | a) 降溫至正常工藝范圍? b)調(diào)整填平劑與光亮劑之比例 c)陽極不合適或陽極電流密度過大(不可大于2.5A/平方分米 |
(9)光亮鎳層在預(yù)鍍銅上結(jié)合力差 | a) 填平劑過量 | a) 鍍酸銅后10%的氫氧化鈉液中電解處理30秒 |
(10)酸銅鍍層在預(yù)鍍鎳上結(jié)合力差 | a) 預(yù)鍍鎳鍍液含硫化物 | a) 采用不含硫的半光亮鎳鍍液 |
(11)鍍層有微細(xì)針孔 | a) 濾泵吸入空氣? b)不適當(dāng)?shù)目諝鈹嚢?/span> c)缺少潤濕劑 d)缺少開缸劑 | a) 濾泵入口要遠(yuǎn)離空氣攪拌位置防止吸入氣泡? b)打氣喉之氣孔不可過小,直徑最好不小于3厘米 c)補(bǔ)足潤濕劑 d)補(bǔ)加開缸劑 |
(12)鍍層布滿幼細(xì)的微粒 | a) 鍍液內(nèi)有懸浮的微細(xì)顆粒? b)攪拌的空氣被污染 c)鍍層燒焦形成海綿狀鍍層 d)添加硫酸銅時(shí)沒有充分過濾 e)使用權(quán)用不適當(dāng)陽極 | a) 過濾鍍液? b)檢查隔塵網(wǎng),隔油網(wǎng),最好用無油氣泵打氣, c)檢查溫度,分析銅含量,氯離子 d)過濾鍍液 e)使用磷銅陽極 |
(13)陽極鈍化 | a) 硫酸含量過高? b)銅含量過高 c)氯離子含量過高 d)陽極袋堵塞 e)鍍液被子大量鐵雜質(zhì)致使鍍液比重過高 | a)稀釋鍍液? b)稀釋鍍液 c)加入其它物質(zhì)使其沉淀減少 d)清洗陽極袋 e)除雜質(zhì),稀釋鍍液 |
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鍍???? 鉻
鍍裝飾鉻常見故障及糾正方法
故障現(xiàn)象 | 產(chǎn)生的原因 | 糾正方法 |
光亮度不足 | a)溫度低或電流密度過高? b)硫酸根含量低 c)三價(jià)鉻高 d)鐵雜質(zhì)含量高 | a)升溫,檢查電流是否在工藝范圍? b)分析補(bǔ)充 c)大陽極,小陰極電解 d)用離子交換或隔膜電解 |
覆蓋能力差 | a)溫度高而電流密度低? b)硫酸含量高, c)三價(jià)鉻不足 d)鋅、銅、鐵雜質(zhì)多 | a)降低,檢查電流是否在工藝范圍? b)分析后用BaCO3,除去部分硫酸根; c)大陰極,小陽極電解 d)離子交換或隔膜電解處理 |
局部無鉻層 | a)孔眼未堵塞? b)裝掛不當(dāng),產(chǎn)生氣袋或?qū)щ姴涣?/span> c)零件形狀復(fù)雜,未使用輔助陽極 d)零件互助屏蔽 e)鍍件表面有油污 f)掛具未絕緣 | a)用塑料管堵塞? b)改用掛具 c)選擇適當(dāng)?shù)妮o助陽極 d)少掛零件 e)對(duì)鍍件進(jìn)行重新處理 f)改進(jìn)掛具絕緣 |
鍍鉻層同鍍鎳層一起剝皮 | a)鍍前處理不徹底? b)鍍鎳層內(nèi)應(yīng)力大 | a)加強(qiáng)鍍前處理? b)調(diào)整鍍鎳溶液 |
銅錫合金鍍層上鍍鉻時(shí)出現(xiàn)黑花 | a)溶液溫度低? b)鍍鉻前處理不徹底 c)通電過快或過慢 e)銅錫合金中含錫量過高 | a)升高溫度? b)加強(qiáng)鍍鉻前處理 c)改進(jìn)操作 e)調(diào)整銅錫合金 |
鍍硬鉻
故障現(xiàn)象 | 產(chǎn)生的原因 | 糾正方法 |
鍍層剝落 | a)鍍前處理不良? b)鍍鉻過程中途斷電 c)零件進(jìn)槽預(yù)熱時(shí)間短 d)溶液溫度或陰極電流密度變化太大 e)硫酸含量過高 | a)加強(qiáng)鍍前處理? b)重新鍍鉻時(shí),進(jìn)行陽極處理或陰極小電流活化處理 c)加長(zhǎng)預(yù)熱時(shí)間 d)嚴(yán)格控制溶液溫度和陰極電流密度 e)加碳酸鋇處理 |
鑄鐵件鍍不上鉻層,? 僅有析氫反應(yīng) | a)鍍前浸蝕過度 b)進(jìn)行陽極處理時(shí),造成石墨裸露 c)陰極電流密度過低 | a)重新全加工后再鍍? b)重新全加工后再鍍 c)提高陰極電流密度 |
鍍層粗糙,有鉻瘤 | a)陰極電流密度過大? b)陰、陽極間距離太近 c)零件形狀外凸,沒有使用保護(hù)陰極 d)硫酸根過高 | a)降低陰極電流密度? b)放寬陰、陽極間距離 c)使用合適的保護(hù)陰極 d)加碳酸鋇處理 |
鍍層或底層金屬上有明顯裂紋 | 鋼在淬火時(shí)有應(yīng)力 | 鍍前將零件回火消除應(yīng)力 |
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