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太陽能硅片清洗劑強去污低泡表面活性劑FAS-1
針對硅片硅粉的清洗，選取眾多表活進行測試，最終認為FAS-1陰離子表面活性劑在對硅片有強去污力、低泡的同時，亦具有較高的性價比，可用于硅片清洗中極大提高對硅粉的清洗力。
1.硅片清洗測試
按硅片常規清洗劑配比配制清洗劑A，并在A基礎上復配適量FAS-1配制清洗劑B，在相同測試條件下清洗，結果如圖1所示。清洗劑A清洗力較差，硅片殘留大量硅粉，而復配FAS-1的清洗劑B將硅粉完全清洗干凈，說明FAS-1對硅粉有較強的去除力，提升效果明顯。
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圖 1 硅片清洗測試結果
2.泡沫測試
硅片清洗劑若有豐富的泡沫會導致硅片漂洗不干凈，增加漂洗次數，浪費更多的水及能耗資源。
按照相同活性物濃度，對FAS-1、NP-10、FMES測試發泡性能，具體數據參考圖2。FAS-1具有更低的泡沫，比常規非離子表活NP-10的泡沫更低。因此，FAS-1非常適用于硅片清洗中。
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圖 2 FAS-1的泡沫對比圖
3.小結
FAS-1 BP-8237非常適用于硅片清洗劑中對硅片硅粉、灰塵的清洗，去污效果顯著，并具有低泡沫特點、性價比高。
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@ 盟友9857134062
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