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鍍硬鉻故障分析：鑄鐵工件大量析氫，無鍍層
（1）可能原因：工件鍍前腐蝕過度
原因分析：鑄鐵工件中含有大量的碳，氫在碳上的析出過電勢較低，若腐蝕過度，基體中碳晶體大量裸露，而出現大量析氫，無鉻沉淀。
處理方法：a.用2倍的電流(Dk=80～120A/dm2)沖擊鍍3min，再恢復到正常電流電鍍(Dk=40～60A/dm2)；
b.縮短浸蝕時間或降低浸蝕液濃度。
（2）可能原因：陽極浸蝕時間過長
原因分析：陽極浸蝕的目的是金屬表面的氧化膜電化學溶解并形成微觀粗糙的表面，若陽極浸蝕時間過長，會造成基體碳晶體裸露，電鍍時大量析氫，元鉻層沉積。另外，造成基體粗糙，使得真實面積比表觀面積大很多，真實電流密度大大降低，無鉻層沉淀
處理方法：a.用2倍的電流(Dk=80～120A/dm2)沖擊鍍3min，再恢復到正常電流電鍍(Dk=40～60A/dm2)；
b.縮短陽極浸蝕時間(控制在15～30s)。
（3）可能原因：沒有使用沖擊電流施鍍
原因分析：鑄鐵件含有大量的碳，表面有較多的縮孔、砂眼和氣孔，其真實表面積比表觀面積大很多，且鋼鐵中含有大量的碳，在鍍鉻液中氫在碳上析出的超電勢比在鐵上析出的超電勢小，如果以正常的電流密度施鍍，則因真實電流密度太小，工件上只有氫的析出而沒有鉻的沉積。因此，必須采用2倍的沖擊電流密度起鍍，使陰極極化增大，表面迅速覆蓋一層
鉻，然后再恢復到正常的電流密度電鍍。
處理方法：用2倍的電流(Dk=80～120A/dm2)沖擊鍍3min，再恢復到正常電流電鍍(Dk=40～60A/dm2)。
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