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氰化鍍銅鍍層呈灰色，低電流密度處無鍍層，并好像有密密麻麻的細鐵粒在鍍層上沉積
原因分析：可能產生的原因：鉛雜質過多。在氰化鍍液中，少量的鉛（0.015~0.03g/L）能使鍍層光亮，常用的鉛鹽可以以鉛酸鈉或乙酸鉛的形式加入，常作為滾鍍銅鍍液的光亮劑，由于鉛與銅共沉淀，所以要經常添加，但是當鉛含量在0.08g/L以上時，將會影響鍍層質量，會使鍍層粗糙、發灰，低電流密度部位無鍍層沉積，當鉛含量高達0.5 g/L時，鍍層呈海綿狀。
??為了驗證以上判斷是否正確，進行了如下實驗：
a.取鍍液100mL，加適量氰化鈉，調高游離氰化鈉含量至上限；
b.此時鍍液呈淡黃色，加熱至60℃；
c.加入0.04g硫化鈉，攪拌溶液，此時鍍液中有黑色沉淀物產生，由此可見，鍍液的確是被Pb2＋所污染。
注：向鍍液中加入硫化鈉時，看到黑色沉淀，此沉淀不一定是硫化鉛的沉淀，因為當鍍液中游離NaCN含量偏低時，鍍液中的銅也能與Na2S作用而形成黑色的硫化物沉淀，所以在處理鉛雜質前，先做一下小實驗，檢驗鍍液中是否有鉛雜質。假如生產的沉淀為白色，那么鍍液中只有鋅雜質而沒有鉛雜質。倘若形成的沉淀為灰黑色，那么可能既有鉛，又有鋅
Pb2+Na2S→PbS↓(黑色)+2Na+
Zn2+Na2S→ZnS↓(白色)+2Na+
處理方法：①硫化鈉處理法
a.調整游離氰化鈉的含量，有分析條件的工廠，將游離氰化鈉的含量調到上限值，以保證鍍液中的銅離子充分絡合；無分析條件的工廠，在補加氰化鈉時，充分攪拌，并觀察鍍液顏色，由青灰色變成淡黃色；
b.將鍍液加熱到60℃，目的是加速后面的沉淀反應，使沉淀顆粒粗大，以利于沉降和過濾；
c.在攪拌下，加入0.2~0.4g/L的已稀釋成10%的CP級硫化鈉，繼續攪拌20min；
d.加入1~2g/L電鍍級粉末活性炭，攪拌20~30min，靜置3h，再過濾；
e.分析調整成分，電解4h后，試鍍，鍍層正常。
②小電流電解處理法：電解除去鉛雜質的最佳電流密度為0.5~0.1A/dm2。
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