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研磨劑配方應用實例
堿性硅晶片拋光液A,它的PH值范圍為8~13,粒徑為15nm~150nm,它是由磨料、PH調(diào)節(jié)劑、表面活性劑和水混合組成。該拋光液是堿性,不腐蝕配方分析/成分檢測/研發(fā)外包/工業(yè)診斷污染設備,容易清洗;硅拋光速率快,平整性好,表面質(zhì)量好;使用不含金屬離子的螯合劑,對有害離子的螯合作用增強;采用非離子表面活性劑,能對磨料和反應產(chǎn)物從襯底表面有效的吸脫作用,拋光后易于清洗;對環(huán)境無污染;拋光液具有良好的流動性,提高質(zhì)量傳輸?shù)囊恢滦浴⒔档捅砻娴拇植诙取?/span>
在相同磨料濃度下150 nm 納米二氧化硅溶膠的拋光速率最高,達到2.0?mg/min;在相同顆粒數(shù)目下200 nm 納米二氧化硅溶膠的拋光速率最高,達
到3.0 mg/min。
通過對化工產(chǎn)品的配方分析還原,有利于企業(yè)了解現(xiàn)有技術的發(fā)展水平,實現(xiàn)知
己知彼;有利于在現(xiàn)有產(chǎn)品上進行自主創(chuàng)新,獲得知識產(chǎn)權;有利于在生產(chǎn)過程
中發(fā)現(xiàn)問題、解決問題。通過對化工產(chǎn)品的配方改進,配方研發(fā),可以加快企業(yè)
產(chǎn)品更新?lián)Q代的速度,提升市場競爭力,因此,對于化工產(chǎn)品的分析、研發(fā)已變
得刻不容緩!
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到3.0 mg/min。
通過對化工產(chǎn)品的配方分析還原,有利于企業(yè)了解現(xiàn)有技術的發(fā)展水平,實現(xiàn)知
己知彼;有利于在現(xiàn)有產(chǎn)品上進行自主創(chuàng)新,獲得知識產(chǎn)權;有利于在生產(chǎn)過程
中發(fā)現(xiàn)問題、解決問題。通過對化工產(chǎn)品的配方改進,配方研發(fā),可以加快企業(yè)
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