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FA-6在硅片清洗劑中對硅粉清洗的應用


硅片切割后的表面粘附嚴重的污垢,包括硅粉和金屬離子等,硅片清洗目的就在于清除片表面所有的微粒、金屬離子及有機物等沾污本文通過從對臟污硅片的潤濕性以及超聲波清洗測試,認為FA-6 BP-8024非離子表面活性劑對硅片具有優異的潤濕性及清洗力,并具有較高的性價比,可用于硅片清洗中提高清洗劑的清洗力。

1.表活在硅片表面的潤濕性測試

以非離子表面活性劑FA-6NP-10作實驗樣品,配制0.1%濃度的表面活性劑水溶液,在有污漬的硅片表面各滴加1滴表活水溶液,觀察其在硅片表面的擴散范圍及擴散濃度。由圖1明顯看出,FA-6滴加在硅片表面后快速擴散至較大面積,而NP-10在硅片表面擴散范圍很小,潤濕性較差。因此,FA-6在硅片表面的潤濕性明顯優于NP-10

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1 硅片表面潤濕性對比圖

2.硅片清洗測試

配制相同濃度的NP-10FA-6的水溶液,與硅片清洗的堿劑一起復配清洗。清洗劑超聲波3 min后,用純水漂洗干凈后風干,測試結果如圖2所示。復配FA-6的清洗劑可將硅片表面的硅粉、油污等完全清洗干凈,而復配NP-10的還殘留較多硅粉沒有去除。

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2?硅片清洗測試結果

3.總結

FA-6 BP-8024非離子表活復配于硅片清洗劑中可明顯提高清洗劑的清洗力,加快硅片的清洗速率,不損傷硅片,并具有低泡、環保特點。

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