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化學法退鍍液配方分析 ?


1.背景

鍍件在電鍍或化學鍍過程中,由于各種原因造成鍍層質量不好,出現各種缺陷,如結晶粗糙或不均、起泡、色澤不好、發暗,有些鍍層發現有裂紋、針孔或斑點等。當鍍層存在缺陷時,應該將鍍層退除、重新再鍍,以獲得良好的鍍層質量。常用的鍍層退除方法有化學退除法、電解退除法、機械退除法。

2.化學法退鍍簡介

2.1?化學法退鍍概念 SHAPE \* MERGEFORMAT

化學法退鍍機理比較成熟。主要是通過強氧化劑或酸來溶解度層金屬,對于Cu/Ni/Cr鍍層的退鍍,化學法一般分步進行,先用稀鹽酸將鉻層溶解,然后用濃硝酸氧化法將鎳和銅溶解。

傳統的化學法脫除Cu/Ni鍍層主要有兩類:濃硝酸( 加氯化鈉) 氧化法和硝基化合物( ? 防染鹽)法。濃硝酸法成本較低,退除速率快,但產生大量的氮氧化物氣體,而且容易導致基體金屬過腐蝕;防染鹽即間硝基苯磺酸鈉,雖然對基體無腐蝕,但需高溫退除,時間長,效率低; ? 而且若與劇毒物質氰化鈉同時使用,操作不當,危害也很嚴重。

化學法退鍍鉻層,常用的是常溫下與稀鹽酸反應。但是由于掛具結構復雜,形狀各異,即使退除鍍層時不斷攪拌,總有退除不干凈的部位,尤其是一些凹坑、拐角處。

2.2.化學法退鍍機理

化學法退鍍機理比較成熟。主要是通過強氧化劑或酸來溶解鍍層金屬,對于Cu/Ni/Cr ? 鍍層的退鍍,化學法一般分步進行,先用稀鹽酸將鉻層溶解,然后用濃硝酸氧化法將鎳和銅溶解,其反應機理文獻中都有論述。為了防止鐵基體的過腐蝕,通常引入六次甲基四胺、乙二胺、硫脲等作為緩蝕劑。

防染鹽法的反應機理很復雜: ? 第一步是硝基(NO2)還原為亞硝基(NO),這一步通常是比較緩慢的,因為反應過程伴隨著相當高的活化電位。第二步還原反應是迅速的,反應過程中伴隨著較低的活化過電位,還原的過程是由亞硝基還原成羥胺基) ? NH2OH+ 。隨后的步驟則取決于退鍍液是酸性還是堿性 。

2.3?化學退鍍液的組成

化學退鍍液主要由氧化劑、絡合劑、促溶劑、緩蝕劑和表面活性劑等組成。傳統的混合硝酸法雖然退速快,毒性較低,但產生大量有害的NOx氣體,俗稱(黃龍),稍有不慎就會導致基體過腐蝕; ? 氰化法則存在污染嚴重的問題,其退除過程中產生的HCN氣體不僅污染大氣,還嚴重危害操作人員的健康,且氰化法退液中含CN- ? ,不經處理不允許排放,對高濃度氰化鈉廢液進行處理極其昂貴,且稍有疏忽,便會導致公害。

目前我國在S-防染劑(間硝基苯磺酸鈉)為主要成分,加乙二胺、檸檬酸為輔助成分的額化學退鎳方面,研究及應用較多,其主要原理是基于:2RNO2+3Ni+3H2O+9N2H-CH2-CH2-NH2 ? ? ? ?RNO=NR+3Ni(NH2-CH2-CH2-NH2)3+6OH-

其中,乙二胺不僅是鎳的穩定絡合劑,對基體鐵也有良好的吸附緩釋性,而檸檬酸(作為絡合劑)的添加,可提高退鍍速率。鐵劑緩蝕劑多以有機胺類化合物為主,如:六次亞甲基四胺、亞硝基二丁胺、尿素、硫脲等,脂類的報道較少。

3.?應用案例

3.1?傳統硝酸型化學退鍍液

3.1.1錫鎳合金退鍍液配方 SHAPE \* MERGEFORMAT

組成

投料量

成分作用

硝酸(工業級)

300~350mL/L

鹽酸(工業級)

15~20mL/L

六次亞甲基四胺

35~45g/L

緩蝕劑

加至1L

3.1.2?快速錫鉛合金退鍍液

組成

投料量

成分作用

氟化氫銨

150~220g/L

腐蝕劑

過氧化氫

20~50g/L

氧化劑

檸檬酸

30~45 /L

絡合劑

加至1L

3.2除鎳劑配方

目前的除鎳劑主要由氧化劑、絡合劑、促進劑、抑制劑和表面活性劑等組成。在除鋼上鎳層時,與堿性溶液聯合使用;在除銅、黃銅上鎳層時、與酸性溶液聯合使用。但是除鎳劑正在向中性溶液方向發展,因為后處理比較方便,這也是今后主要的研究方向。

3.2.1堿性除鎳劑:

組成

投料量

成分作用

間硝基苯磺酸鈉

55~70 g /L

防染劑

氰化鈉

120~180 g/L

/

氫氧化鈉

0~25 g/L

/

加至1L

?槽液溫度: ? 60~80

3.2.2?胺型

組成

投料量

成分作用

硝基芳香族化合物 ?

30~40g /L

防染劑

NH4OH(28%)

0.2~0.5g/L

/

(NH4)2SO4

100~120g/L

/

加至1L

槽液溫度: ? 10~80

3.2.3氰型配方1

組成

投料量

成分作用

間硝基苯磺酸鈉

80~100g /L

防染劑

單乙醇胺

35~45g /L

緩蝕劑

甘氨酸

30~40g/L

配位劑

硫代硫酸鈉

4~6g /L

/

十二烷基硫酸鈉

0~0.5 g /L

表面活性劑

加至1L

? 氰型配方2

組成

投料量

成分作用

間硝基苯磺酸鈉

80~90g /L

防染劑

乙二胺

120~140mL/L

緩蝕劑

檸檬酸

85~95g /L

腐蝕劑

銅試劑

0~0.1g /L

絡合劑

葡萄糖酸內酯

0.1~0.3g /L

加至1L

?氰型配方3

組成

投料量

成分作用

間硝基苯磺酸鈉

50~60g /L

防染劑

乙二胺

70~80g /L

緩蝕劑

磷酸

75~95g /L

氧化劑

氨水

0~60mL/L

PH調節劑

DDTC

0.3~1g /L

/

加至1L

此配方適用于鍍鎳不合格品的處理及含鎳鍍層工件的返修,從而使不合格的鍍鎳層重新獲得良好的鍍層質量。磷酸與磷酸根具有良好的表面分散性,除垢性和光潔性,因而可用作金屬表面處理的輔助成分。與傳統的乙二胺-檸檬酸相比,此體系在成本,溶液維護和退鍍光潔性方面有一定的優勢。

3.2.4常見化學退除溶液配制

1)甲醛鹽酸溶液:于6mol/L鹽 SHAPE \* MERGEFORMAT

2)烏洛托品鹽酸溶液:于6mol/L鹽酸500ml中加入六次甲基四胺1.5g;

3)三氯化銻鹽酸溶液 :于12mol/L鹽酸100mL中加入三氯化銻4g;

4)高硫酸銨劑氨水溶液 :于15%的高硫酸銨及25%的氨水;

5)氯化亞錫鹽酸溶液 :氯化亞錫10g溶于100mL12mol/L鹽酸中;

4.常見電鍍添加劑

無機添加劑(如鍍銅用的鎘鹽)和有機添加劑(如鍍鎳用的香豆素等)、絡合劑、光亮劑、表面活性劑、整平劑、應力消除劑、除雜劑和潤濕劑、

?有明顯表面活性類光亮劑(十二醇硫酸醋鈉(K-12)、十六烷基三甲基甜菜堿(Am)、聚氧乙烯(n)十二醇醚(n=1520)、聚氧乙烯(n)壬基酚醚(n=1021)、聚氧乙烯((n)蓖麻油、聚氧乙烯(n)、二癸撐三胺(N)有表面活性的光亮劑、電鍍用表面活性劑(琥珀酸二辛酷磺酸鈉系(Aerosol)、脂肪醇硫酸醋鹽系列(Duponol)、支鏈脂肪醇硫酸酯鹽系列(Tergitol)、烷基芳基磺酸鹽系列(Nacconol)、烷基萘磺酸鹽系列(Alkanol)、烷基芳基酚醚硫酸酯鹽系列(Triton720)、脂肪醇聚氧乙烯醚系列(Tri-tonNE)、壬基酚聚氧乙烯醚系列(TritonN)、)鍍鋅液、氰化銅電鍍液、鍍鎳液用、鍍鉻液用

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